'반도체 기술 유출' 前삼성전자 연구원…1심 징역형 집유

외국 소재 반도체 업체 이직 목적
국가핵심기술 13건 등 유출 혐의
1심 "나라 경제 발전 악영향 우려"
"회수 및 삭제…외부 유출은 안돼"

반도체 핵심기술을 국외 경쟁사에 유출하려다 적발된 전직 삼성전자 연구원이 1심에서 징역형 집행유예와 벌금형을 선고받았다.



서울중앙지법 형사합의23부(부장판사 오세용)는 21일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 삼성전자 전 수석연구원 이모(52)씨에게 징역 3년에 집행유예 4년, 벌금 2000만원을 선고하고 240시간의 사회봉사를 명령했다.

재판부는 "피고인이 반도체 회사 이직을 준비하는 과정에서 삼성전자의 D램 반도체 관련 기술이 집약된 자료를 몰래 자신의 개인 이메일로 유출했다"며 "국가핵심기술 자료도 포함됐다"고 지적했다.

이어 "이 자료들은 삼성전자가 영업비밀로 여겨 외부 유출이 되는 경우 중대한 피해 발생을 충분히 예상할 수 있었다"며 "반도체 산업 비중이 큰 우리나라 경제 발전에 중대한 악영향을 미칠 가능성을 충분히 인식할 수 있었다"고 말했다.

이어 "3개월간 반복해서 유출해 120건이 유출됐고 삼성전자 측이 범행을 적발한 때로부터 이 법정에 이르기까지 범행을 부인하며 반성하고 있지 않다"며 "삼성전자 측이 피고인에 대한 엄벌을 탄원하고 있다"고 했다.

다만 "유출한 자료가 외국이나 다른 기업 등 외부에 유출되지 않았고 개인 이메일에 보관하고 있다가 모수 회수되거나 삭제됐다"며 "삼성전자 기술 정보를 다른 회사 제공에 약속하지는 않은 것으로 보인다"고 설명했다.

아울러 "삼성전자는 국가핵심기술에 해당하는 자료에 대해 영업비밀로 엄격히 관리하기는 했지만, 더 나아가 기술 취급자들에게 국가핵심기술에 해당한다는 사전 고지나 유출 방지 조치를 따로 취하지 않은 점은 피고인에게 유리한 사정이다"라고 덧붙였다.

이씨는 지난 2022년 3~6월 외국 소재 반도체 관련 업체에 이직할 목적으로 D램 반도체 적층조립기술 등 국가핵심기술과 영업비밀을 개인 이메일로 전송해 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다.

이씨가 유출한 자료에는 'D램 반도체 적층조립기술' 등 국가핵심기술 13건과 'D램 반도체 사업화 전략 자료' 등 각종 영업비밀 100여 건이 포함돼 있었던 것으로 조사됐다.

검찰은 지난해 3월 국가정보원 이첩자료를 토대로 수사를 벌여왔으며 같은해 8월 이씨를 기소했다. 검찰은 "향후에도 경제 안보와 직결되는 기술 유출 사범에 대해 엄정 대응하겠다"고 밝혔다.

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법원.검찰 / 김 훈 기자 다른기사보기